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半導體超純水設備是一種結合反滲透技術和EDI技術的水處理設備。該設備可去除水中的導電介質有機物。不溶性膠體及其化學雜質。廣泛應用于半導體材料、電池、電路板等電子行業。由于使用行業對水質的特殊要求，應注意日常維護。以下是半導體超純水設備的技術維護方法。
由于生產過程中出現波動，必須采取保護措施，波動過程中處理不當會導致膜性能下降。
1.15d以下的系統短期保存，每1~3d低壓沖洗可采用保護反滲透設備的方法。
2.停機15d以上的系統為長期停機保護，反滲透裝置必須用保護液(殺菌劑)充入凈水設備。
在半導體超純水設備的運行過程中，反滲透裝置的脫鹽率可能會下降，水力下降。
壓差上升，甚至對薄膜造成不可恢復的損傷。這是因為反滲透膜可能被無機污垢、膠體、微生物、金屬氧化物等污染。因此，為了恢復良好的透水性和鹽去除性能，需要對薄膜進行化學清洗，一般每3~12個月清洗一次。
許多用戶在使用超純水設備時，會非常注意如何正確使用設備，如何維護超純水設備，以下是如何正確使用超純水設備。
使用超純水設備制備超純水時，首先檢查設備各部分及其連接管之間是否有異常。設備檢測正確后，打開總電源開關，逐步打開原水閥，然后打開高壓泵，聽設備運行異常，觀察蜂房過濾器。活性炭過濾器，壓縮活性炭過濾器，安全過濾器。
反滲透系統進出口的水壓，必須確保各過濾設備的進出口水壓差在合理范圍內，并控制反滲透水。中斷和濃水的壓力也在合理范圍內，才能正式投入使用。
使用時，打開一個出水閥，控制混合床的進出水壓力。精密過濾器的壓力在要求范圍內，以確保出水電阻率大于10mΩ·cm。在此過程中，我們需要注意觀察春季水槽中的儲水情況，以免因抽水或儲水過多而導致水質惡化，從而影響混合床樹脂的使用壽命。
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