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工業(yè)上使用的EDI超純水設備的供水，通常是城市管網的自來水和地下水，未經處理的供水容易在設備內部產生污垢，如何去除這些污垢成為人們熱門的研究課題。
電路板超純水設備清洗污垢方法：
1、倒換電極。
可以有效地減輕膜及陰極上的水垢，一般水垢沉積在濃水室陰極表面上,倒換電極后，濃水室、淡水室相應倒換造成水垢的不穩(wěn)定狀態(tài),因而可以減輕結垢。
2、酸洗。
是消除沉淀的有效方法，水垢積到一定程度，就需要進行酸洗，酸洗一般采用循環(huán)酸洗，濃水,淡水和極水室一次酸洗的方法。
3、堿洗。
酸洗不能取出有機沉淀物，對于這類污染層可以用堿性食鹽水清洗，使有機物消除，堿洗可以利用酸洗系統(tǒng)進行，一般不另設裝置。
4、定期拆洗。
采用上述方法不能回復除鹽率時，應把EDI膜堆拆開清洗,重新組裝一般1-1.5年電滲析需要拆洗一次。
造成超純水設備膜塊堵塞的原因有：
1、進水中含有大量的顆粒以及膠體等物質造成膜塊污堵。
2、進水中含有大量的無機物造成膜塊污染堵塞。
3、進水中含有大量的有機物造成EDI膜塊堵塞。
4、進水中含有大量的微生物造成EDI膜塊堵塞。
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